激光刻蚀

去除材料，生成沟槽，分隔薄膜

用于薄膜太阳能电池的激光刻蚀，其理论基础是激光作用下的去材料加工。其目的是切割出精细的沟槽，将膜层分割成独立的窄条。激光加工具有精细准确的优点：极细的切槽宽度(微米级)，使得膜层面积损失率小，利用率高；准确的能量控制，使得待加工膜层被整齐分割，导电层不受损伤。高转化效率的太阳能电池由此而生。

薄膜太阳能电池的三道镀膜，依次为： 1、前电极，材料为TCO(透明导电氧化物) ；2、 半导体工作物质，其类型有碲化镉 (CdTe)、非晶硅 (a-Si)和 非晶硅/微晶硅叠层(a-Si / μ-Si)等 ；3、背电极，材料为金属，例如钼(Mo)。

但是，简单的连续镀膜并不能使得电极和半导体发挥应有的作用。每道镀膜之后，必须进行激光刻蚀，三道刻蚀工艺依次为 P1，P2 和 P3，它们将膜层分割成独立的窄条，再经后续镀膜实现层间互连。上图中，黑色的背电极膜层经沟槽（P2生成）与TCO层导通，从而使得相邻电池单元串联起来。

LPKF Allegro 激光系统 提供完美的薄膜刻蚀工艺： 选用特定波长的激光，选择性地刻蚀指定膜层，而不会损伤底下的其它膜层。